全自動水平式濕法刻蝕設(shè)備
全自動水平式濕法刻蝕設(shè)備,利用EFEM晶圓傳輸模塊實現(xiàn)晶圓全自動工藝運行.
產(chǎn)品特點
1.產(chǎn)能高,WPH高;
2.優(yōu)秀的腔體環(huán)境;
3.高效的化學品回收系統(tǒng);
4.支持多種化學品;
5.刻蝕均勻性好;
6.優(yōu)秀的干燥效果。
應(yīng)用領(lǐng)域
晶圓制造等
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